このシステムは、防食手動サンプリング装置です。 サンプリングに接触する部分
媒体は、防食目的を達成するために PFA またはフッ素で裏打ちされています。 テフロンサクションパイプ
挿入管（フッ素ライニング・グラスライニング）に合わせて中液下に浸漬
容器内でプロセスの安定性を高めます。媒体は容器内で安全かつ迅速にサンプリングされます。
真空引きによるシステム。
サンプラーの設置とサンプリングの手順
インストール手順
1. リアクターの対応するノズルに (挿入パイプ) を取り付け、ボルトを締めます。
2. サンプリングシステムの下端（ベース）を（ダイヤフラムバルブ 1）から分離し、（ベース）を（挿入パイプ）の上端に取り付けます。
3. テフロン外フランジ（吸込管）を（ベース）の内腔に入れ、（吸込管）のテフロン外フランジを（弁座）のシール面に合わせます。
4. サンプリング システム本体の残りの部分を接続して締め、(ベース) のシール部分がしっかりと締まり、漏れがないことを確認します。
注：小径パイプとの接続時はベース部のキャンセルが可能です。
サンプリング手順
開始前の確認と確認:
a: すべてのダイヤフラム バルブが閉じています。
ｂ：サンプリングシステムの内外に残留物がなく、サイトグラスに損傷がない。
c: 真空システムは、対応する真空インターフェースに接続され、シールに漏れがないことを確認します。
d: {{0}.2~0.3 MPa の窒素ガス源を逆吹きに使用します。
e: 予備の 150/250 ml ホウケイ酸ガラス サンプリング ボトルが 1 つ必要です。
吸引:
a: 開 (ダイヤフラムバルブ 1)。
b: 時間内に (ダイヤフラム バルブ 2) を開きます。
c: 観察 (サイトグラス)。 フローターがゆっくりと上昇し、媒体が覗き窓を満たします。
d: 閉じる (ダイヤフラム バルブ 1 とダイヤフラム バルブ 2)。
サンプリング：
a: 開く (ダイヤフラム バルブ 3)。
b: 開く (ダイヤフラム バルブ 4)。 サンプリングボトルの投与量を守ってください。
c: 閉じる (ダイヤフラム バルブ 3 とダイヤフラム バルブ 4)。
ｄ：（サンプリングビン）を取り出し、ビンの口を封じて（予備サンプリングビン）入れる。
e: 開 (ダイヤフラム バルブ 1) - 開 (ダイヤフラム バルブ 5) - 開 (ダイヤフラム バルブ 3 とダイヤフラム バルブ 4)。
窒素でシステム内の残留培地を容器に戻します。
f: 閉じる (ダイヤフラム バルブ 1、ダイヤフラム バルブ 3、ダイヤフラム バルブ 4、ダイヤフラム バルブ 5)。
サンプリング完了。
手動サンプリング システムを使用した原子炉の洗浄プロセスの説明:
反応器全体の洗浄プロセス中、サンプリングシステムの内部洗浄とパージは、上記のサンプリング手順に従って実行できます。
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